光电子先导院无尘车间内，晶圆中试作业现场

双平台齐突破

2026年的两张成绩单，写满“创新”二字

2026年，光电子先导院两大核心平台同步迎来标志性成果，以实打实的工艺硬实力，向全行业亮出“先导”底气。

在6英寸化合物平台，光电子先导院9月发布面向1D可寻址VCSEL器件的GaAs工艺设计工具包（PDK），10月底将推出2D可寻址VCSEL GaAs工艺PDK。两款PDK均覆盖器件从正面P型接触制备到背面N型金属成膜的完整制造链路，依托经产线验证的标准化工艺参考，为具备VCSEL设计能力、有流片需求的客户提供可靠的代工支撑。至此，平台已形成覆盖1D线阵、2D面阵VCSEL器件的完整PDK矩阵，将通道隔离、PBO平坦化等面阵关键工艺纳入标准化设计规则，帮助客户在版图设计阶段对齐产线工艺约束，减少设计与制造端反复迭代。两款PDK的落地，标志着化合物开放代工平台在标准化工艺输出能力上实现关键升级，打通设计与产线之间的工艺壁垒，让客户从设计到量产的路途大大缩短，也为激光雷达、光通信等前沿应用场景的产业化按下加速键。

在8英寸硅光平台，光电子先导院于8月立强大会发布重磅消息：西北首条8英寸硅光中试产线量产级核心工艺数据首次系统公开，同步推出LPSIN400低损耗氮化硅工艺平台及配套PDK。自研2×2MMI多模干涉耦合器实现C+L波段全覆盖，对外共享SOI无源工艺平台等关键指标，充分印证产线工艺体系的稳定性与成熟度。依托这一平台，企业研发迭代周期由此前的12个月大幅压缩至3个月左右，综合研发成本降至海外流片的三分之一以内，为人工智能算力、高速光互连、光计算等前沿场景注入硬核动能。据悉，8英寸硅光平台后续还将推出全新SOI PDK。

两条产线的同频跃迁，是十一年砥砺沉淀最生动的注脚。硬科技创新从来不在于口号，而是藏在每一组工艺参数的精雕细琢、产线能力的持续夯实、面向产业链的开放赋能里。

这份开放，也在陕西大地上结出累累硕果。随着我省“追光计划”深入实施，全省光子企业总数由2021年的191家增长到2025年的409家，增长114%；总产值由150亿元提升至410亿元，增长173%。西安正加速构建“材料—芯片—器件—系统—终端应用”的完整产业链条，冲刺2027年500亿元、2030年千亿级光子产业集群的宏大目标。这背后，始终跃动着光电子先导院国家级制造业中试平台的核心牵引力量。

追光筑芯：奔赴光子新征程

十一年，镌刻着奋斗的足迹，也铺展着向新而行的征程。面向未来，光电子先导院将继续夯实“化合物光电+硅光+异质集成”三位一体工艺布局，持续迭代优化工艺平台，完善设计规则与测试套件，立足陕西、辐射全国，做强光子产业底层创新支撑。

追光十一载，筑芯启新程。在光子芯片自主创新的赛道上，光电子先导院将继续坚守科研初心，以笃行不怠的钻研姿态勇毅前行，为我国光子产业高质量发展持续注入“先导”力量。