设备名称:PL mapping system
服务价格:¥200.0 元/小时
设备型号:PLATOM
设备描述:适用于测试氮化镓、砷化镓、磷化铟外延薄膜厚度、反射率及wafer BOW量测 查看详情
设备名称:外延片表面缺陷检测仪
服务价格:¥300.0 元/小时
设备型号:Nspec
设备描述:高端全自动微观检测系统,可应用于材料科学与生命科学; 可适用透明及半透明wafer缺陷检测 整片Mapping并生成报告 查看详情
设备名称:高真空电子束蒸镀机电化学载流子浓度分析仪
服务价格:¥100.0 元/小时
设备型号:ECVpro
设备描述:IIIV GaAs, GaN, IIVI族, Si及宽带半导体材料浓度纵向分布测试 查看详情
设备名称:膜厚段差测量仪
服务价格:¥10.0 元/分钟
设备型号:Dektak 150
设备描述:主要应用于薄膜厚度测量、样品表面形貌测量、样品表面粗糙度/波纹度测量等众多领域 查看详情
设备名称:SEM/EDS
服务价格:¥200.0 元/小时
设备型号:S-3400N
设备描述:广泛应用于材料表面显微分析 查看详情
设备名称:XRD(X光衍射仪)
服务价格:¥200.0 元/小时
设备型号:X'Pert PRO
设备描述:快速定性、半定量分析多晶材料在常温状态下的结构组成; 小角散射、薄膜厚度、应力分布等分析。 查看详情
设备名称:PL(荧光光谱量测系统)
服务价格:¥200.0 元/小时
设备型号:RPMBlue
设备描述:适用于测试蓝/绿氮化镓外延薄膜厚度、反射率 查看详情
设备名称:Hall量测系统
服务价格:¥100.0 元/小时
设备型号:HL5500PC
设备描述:可测试半导体材料及外延层材料电阻系数,载流子浓度及迁移率 应用材料:Si、III-V、II-VI和宽禁带半导体材料 查看详情
设备名称:PECVD
服务价格:¥500.0 元/小时
设备型号:800plus
设备描述:适用于SiO2,SiNx等材料的高品质镀膜 查看详情
设备名称:高真空电子束蒸镀机
服务价格:¥0.0 元/小时
设备型号:FU-16PEB
设备描述:适用于金属膜、介质膜高品质蒸镀 查看详情
设备名称:MOCVD
服务价格:¥800.0 元/小时
设备型号:2800G4 HT
设备描述:适用于化合物半导体外延生长 查看详情
设备名称:Auto Mask Alinger
服务价格:¥600.0 元/小时
设备型号:MA100e
设备描述:适用于化合物半导体光刻工艺 查看详情
设备名称:等离子化学气相沉积
服务价格:¥500.0 元/小时
设备型号:CC-200Cz
设备描述:适用于SiO2,SiNx等材料的高品质镀膜 查看详情
设备名称:干法等离子刻蚀机
服务价格:¥500.0 元/小时
设备型号:NE-550EXz
设备描述:适用于半导体材料、金属材料等的精细刻蚀 查看详情
设备名称:高真空电子束蒸镀机
服务价格:¥300.0 元/小时
设备型号:ei-5z
设备描述:适用于金属膜、介质膜高品质蒸镀 查看详情